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G1蒸鍍設備


應用場景:應用于OLED材料、OLED小型器件制備研究驗證以及OLED面板量產工藝驗證    


產品特點

                                                                                                                                     


– 可蒸鍍基板尺寸200mm*200mm

– Cluster Type

– 標準化

– 模塊化

– 成膜均勻性高

– 對位精度高

– 運營穩定



核心技術

                                                                                                                                     


– 可滿足客戶定制需求

– 蒸鍍模擬技術

– 溫度及壓力控制技術

– PID控制技術

– Log分析技術

– 高精密對位補償算法




產品參數
G1蒸鍍設備 規格參數
基板 200mm*200mm
蒸鍍均勻性:有機材料 ≤2% (片內);≤2%(片間)
蒸鍍均勻性:金屬材料 ≤3% (片內);≤2%(片間)
速率穩定性(0.01?/s - 3?/s)有機材料 Host: ≤±2%,@1.0?/s
速率穩定性(0.01?/s - 3?/s)Dopant ≤±3%,,@0.01?/s
速率穩定性(0.01?/s - 3?/s)金屬材料 ≤±3%,@2.0?/s
對位 ≤±150μm (機械對位)
對位 ≤±3μm(CCD)
封裝 可配置TFE封裝裝備或手套箱
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