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G2.5蒸鍍設備


應用場景:應用于OLED車燈和車顯、OLED照明、智能穿戴等小尺寸OLED面板量產   

 

產品應用

                                                                                                                                     


– 可蒸鍍基板尺寸370mm*470mm

– Cluster Type

– 標準化

– 模塊化

– 成膜均勻性高

– 使用光學對位,對位精度高

– 運營穩定



技術優勢

                                                                                                                                     


– 有機材料利用率高

– 可滿足客戶定制需求

– Particle 最少化

– 具備Auto PID,蒸鍍穩定,成膜均勻

– 高信賴性,可實現長時間穩定稼動生產(MTFR≥720hour)??


產品參數
G2.5蒸鍍設備 規格參數
基板 370mm*470mm
生產節拍 5分鐘
生產時間 ≥144小時
膜厚均勻性:有機材料 ≤2% (片內);≤3%(片間)
膜厚均勻性:金屬材料 ≤3% (片內);≤2%(片間)
速率穩定性(0.01?/s- 3?/s)有機材料 Host: ≤±2%,@1.0?/s
速率穩定性(0.01?/s- 3?/s)Dopant ≤±3%,@0.01?/s
速率穩定性(0.01?/s- 3?/s)金屬材料 ≤±2%,@1.0?/s;≤±3%,@0.01?/s
對位 ≤±3μm(CCD)
產品詳情



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